原理：

  派瑞林真空镀膜是在真空条件下利用温度驱动化学反应完成高质量薄膜生长的工艺。固态二聚体在0-180°C升华成气体，通过650-750°C高温炉裂解成活性单体，最后在室温沉积腔聚合形成均匀薄膜。独特的三步法工艺赋予派瑞林涂层优异的保形覆盖能力和防护性能。

优势：

 ■ 真正的保形性：通过CVD工艺在微观结构、深槽和缝隙表面生成厚度均匀、无缺陷的薄膜，不会像液体涂料那样在边缘堆积或产生气泡；
 ■ 厚度精确可控：膜厚可控在0.5-100微米，不影响散热、不增加重量；
 ■ 优异的电学性能：低介电常数、高绝缘强度，适合微电子和MEMS器件封装；
 ■ 良好的稳定性：具有优异的热稳定性和化学惰性；
 ■ 防水防潮性能强：可大规模用于SMT后线路板防水防潮处理。

用途：

  主要应用在消费电子、半导体、微电子、新能源电池、航空航天电子元器件、激光器、MEMS、LED显示等领域。

我们的派瑞林CVD真空镀膜加工：

  凯瑞纳米可为不同领域的客户提供多种派瑞林镀膜解决方案，适合普通金属、贵金属、硅橡胶、线路板、玻璃、PC、PTFE、PE等各类基材。可选配单腔室镀膜系统、多腔室集成镀膜系统、滚筒式镀膜系统和连续镀膜系统。